X射線(xiàn)輻照儀的用途和特點(diǎn)

更新時(shí)間：2021-04-19瀏覽：2662次

X射線(xiàn)輻照儀主要用于培養細胞，微生物，小鼠及大鼠等生物材料的輻照研究，具有劑量均勻性佳、環(huán)境劑量低、劑量可控、重復性佳等技術(shù)優(yōu)勢，可用于進(jìn)行動(dòng)物模型建立（腫瘤等）、抗腫瘤/抗輻射/抗化療/抗排異/免疫治療/放射治療/抗體等藥物研究、DNA損傷、Cellcycle、細胞培養、干細胞(骨髓移植)、腫瘤、信號轉導、細胞免疫抑制治療、移植生物學(xué)、基因治療、血液學(xué)、放射生物學(xué)研究等。該系統主要特點(diǎn)如下：

　　劑量均勻性佳，劑量可控，更多劑量率可選擇

　　環(huán)境劑量低，保護實(shí)驗人員

　　高通量：可一次輻照8只以上小鼠或6塊細胞板

　　X射線(xiàn)輻照儀通過(guò)人工電子裝置產(chǎn)生的高能X射線(xiàn)（160kV-350kV）對細胞或小動(dòng)物（清醒狀態(tài)和麻醉狀態(tài)）進(jìn)行照射，從而用于干細胞(骨髓移植及分化，飼養層細胞制備、細胞誘變等)、DNA損傷、Cellcycle、細胞培養、血制品照射、腫瘤、信號轉導、免疫、基因治療、放射生物學(xué)、藥物研發(fā)等生物學(xué)輻照研究。具有安全性高、使用方便、可在普通實(shí)驗室環(huán)境下使用等優(yōu)點(diǎn)。

　　在放射治療應用中，通常利用的X射線(xiàn)能量范圍為90-300kV。50-150kV被稱(chēng)為淺表X射線(xiàn)，超過(guò)90%的入射劑量造成的損傷集中在表面以下5mm深度內，通常用于治療皮下腫瘤；而200-500kV被稱(chēng)為中電壓X射線(xiàn)，超過(guò)90%的劑量集中在表面以下2cm的深度內，通常用于深部腫瘤的治療。

　　對于PXix-rad系列的X射線(xiàn)輻照儀，160kV型適用于細胞、細菌等及小鼠淺層照射，225kV型適用于細胞、細菌和組織器官的照射，也可用于小鼠大鼠的照射，320kV型是理想的小動(dòng)物照射應用工具，即可對小鼠進(jìn)行照射也可用于大鼠。

　　X射線(xiàn)輻照儀除用于小動(dòng)物輻照，還可用于：

　　1.干細胞：骨髓消融與移植等；

　　2.免疫學(xué)：如：細胞培養與分裂抑制研究、T/B細胞的研究和血液細胞、移植免疫、免疫抑制治療等；

　　3.細胞水平：細胞凋亡或老化，信號轉導，激活位點(diǎn)或因子

　　4.基因組學(xué)：基因穩定性研究、DNA損傷；

　　5.癌癥生物學(xué)：癌癥干細胞，腫瘤照射，放療致死劑量研究等；

　　6.微生物學(xué)：微生物免疫、微生物DNA損傷研究、微生物抗輻射研究、微生物致弱與滅活等；

　　7.飼養層細胞制備

　　8.昆蟲(chóng)絕育技術(shù)（SIT）

　　9.誘變育種

　　10.食品輻照